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大連力迪供應(yīng)芬蘭KxS Technologies Oy半導(dǎo)體濃度監(jiān)測(cè)儀
大連力迪供應(yīng)芬蘭KxS Technologies Oy半導(dǎo)體濃度監(jiān)測(cè)儀，德國總部直接采購，近30年進(jìn)口工業(yè)品經(jīng)驗(yàn),原裝產(chǎn)品,支持選型，為您提供一對(duì)一好的解決方案：貨期穩(wěn)定，快速報(bào)價(jià)，價(jià)格優(yōu)，設(shè)有8大辦事處提供相關(guān)售后服務(wù)。
公司簡介：
大連力迪供應(yīng)芬蘭KxS Technologies Oy 半導(dǎo)體濃度監(jiān)測(cè)儀，
KxS Technologies 致力于先進(jìn)、最現(xiàn)代的液體濃縮技術(shù)，幫助半導(dǎo)體、生物加工、食品、糖、化學(xué)品以及紙漿和造紙行業(yè)的廣泛客戶生產(chǎn)更多高質(zhì)量的消費(fèi)產(chǎn)品。
KxS 專注于在線濃度監(jiān)測(cè)技術(shù)的開發(fā)，并不斷通過 DCM 過程折射儀取得突破，該折射儀設(shè)計(jì)堅(jiān)固、體積小，可確保任何液體過程的可靠性和準(zhǔn)確性。
主要型號(hào)：
DCM-10
芬蘭KxS Technologies Oy 半導(dǎo)體濃度監(jiān)測(cè)儀產(chǎn)品介紹：
大連力迪供應(yīng)芬蘭KxS Technologies Oy 半導(dǎo)體濃度監(jiān)測(cè)儀產(chǎn)品。
在整個(gè)晶圓廠分銷鏈中，當(dāng)需要平衡半導(dǎo)體化學(xué)濃度測(cè)量的成本、速度和準(zhǔn)確性時(shí)，原位折射率已成為行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)。KxS 半導(dǎo)體DCM-10 晶圓廠化學(xué)監(jiān)測(cè)器經(jīng)過設(shè)計(jì)，可以：
定義進(jìn)料清潔化學(xué)品濃度和原始 CMP 漿料密度。
實(shí)現(xiàn)并確保在銅、鎢和層間電介質(zhì)平坦化應(yīng)用中使用的膠體二氧化硅型 CMP 漿料中精確的 H2O2 濃度和 DI 水稀釋度。
將濃度測(cè)量結(jié)果與緩沖氧化物蝕刻（BOE）等工藝中的晶圓蝕刻速率（ER）關(guān)聯(lián)起來。
優(yōu)化濕法帶鋼旋壓工具中蝕刻后殘留物消除劑（如 EKC265™）的使用壽命。
我們的半導(dǎo)體晶圓廠化學(xué)監(jiān)測(cè)器適用于多種應(yīng)用，包括：
SC-1 和 SC-2 的化學(xué)混合物校驗(yàn)和
使用 NH3 水混合物進(jìn)行硬掩模蝕刻
使用 50% KOH 進(jìn)行硅濕法蝕刻
使用 H2SO4:HNO3:H3PO4 混合物蝕刻鈦
使用 HF:HNO3 混合溶液蝕刻背面聚合物
使用各種混合物進(jìn)行 CMP 后清潔
我們的技術(shù)能夠監(jiān)測(cè)各種關(guān)鍵的半導(dǎo)體化學(xué)品，包括但不限于：
過氧化氫（H2O2）
氫氧化銨（NH3水）
稀氫氟酸（HF）
磷酸（H3PO4）
鹽酸（HCl）
氫氧化鈉（NaOH）
硫酸（H2SO4）
N-甲基吡咯烷酮（NMP）
四甲基氫氧化銨 (TMAH)
異丙醇 (IPA)
氫氧化鉀（KOH）
硝酸（HNO3）
聚乙二醇 (PEG)
檸檬酸（C6H8O7）
乙酸（CH3COOH）
大連力迪供應(yīng)芬蘭KxS Technologies Oy 半導(dǎo)體濃度監(jiān)測(cè)儀優(yōu)勢(shì)特點(diǎn)
? 所有測(cè)量功能都集成在傳感器中——無需發(fā)射器
? 監(jiān)測(cè)器適用于多種應(yīng)用
? 測(cè)量輸出選項(xiàng)包括模擬和數(shù)字通信協(xié)議
? 可以通過傳感器的數(shù)字端口連接各種尺寸的外部顯示器。使用帶有網(wǎng)絡(luò)瀏覽器的計(jì)算機(jī)、平板電腦或手機(jī)訪問傳感器的診斷和設(shè)置。
大連力迪供應(yīng)芬蘭KxS Technologies Oy 半導(dǎo)體濃度監(jiān)測(cè)儀主要應(yīng)用：
大連力迪供應(yīng)芬蘭KxS Technologies Oy 半導(dǎo)體濃度監(jiān)測(cè)儀，利用 KxS Technologies 的先進(jìn)解決方案和知識(shí)，在您的化學(xué)監(jiān)測(cè)過程中體驗(yàn)精度和效率。。
